Page 47 - Докторська дисертація_Ткачук
P. 47
47
азотом (рис. 1.4). За високого парціального тиску N2H4 формується компактна
аморфна плівка TiO1,5N0,5 товщиною 1 мкм, яка містить ~ 17 ат. % азоту.
Рисунок 1.4 – Вплив молярного співвідношення фракції N2H4/TTIP
вихідної реакційної газової фази на стехіометрію плівок TiOxNy, сформованих
о
за 400 С [100].
Оксинітридна плівка забезпечує високу твердість (19,5 ГПа), залишкові
напруження стиску 850 МПа, хорошу адгезію з нержавною сталлю та низький
коефіцієнт тертя (0,2).
Для осадження аморфних плівок TiNxOy на Si (100) методом LP-MOCVD
використовували прекурсор на основі аміду (tetrakis(diethylamido)titanium,
TDEAT), який містить Ті та NH3 [102]. Джерелом кисню були залишкові пари
H2O і О2 всередині камери, вміст яких контролювали часом очищення. За
нижчого вмісту кисню (12 год очищення в Ar) формується оксинітрид
TiN0,6O1,5, а за вищого (30 хв очищення в Ar) – TiN0,3O1,9. Використання
прекурсора TDEAT дозволило сформувати оксинітридну плівку за нижчої
о
температури, а саме 300 С, на відміну від використання прекурсора TTIP [46,
100].
Головним недоліком формування оксинітридних покриттів методом
хімічного осадження металоорганічних сполук з парової фази є низька
