Page 280 - Докторська дисертація_Ткачук

280

200…220 В) порівняно з кислим електролітом (Са10(РО4)6(ОН)2 – 100 г/л; 3%

H3PO4 (pH=5)), що пов'язано з його вищою електропровідністю.

Встановивши оптимальні режими осадження у кислому та лужному

електролітах, було сформовано гідроксиапатитні покриття на титанових

дентальних імплантах.

Показано, що формування гідроксиапатитного покриття на дентальному

імпланті в лужному електроліті (рис. 6.21 а – в) забезпечує однорідність

покриття та оптимальне співвідношення Сa/P порівняно з осадженням у кислому

електроліті (рис. 6.21 г – д).

Рисунок 6.21 – Зображення дентальних імплантів (а, б, г, ґ) із

гідроксиапатитними покриттями та їх структура (в, д); осадження в лужному

(а – в) і кислому (г – д) електролітах.

Слід зазначити, що у випадку осадження у лужному електроліті не

спостерігалося сколювання гідроксиапатитного покриття на різьбових кромках
дентального імпланта (рис. 6.21 б), що фіксували на імпланті при осадженні в

кислому електроліті (рис. 6.21 ґ).