Page 239 - Докторська дисертація_Ткачук

239

Товщина дифузійного шару за розрідження 0,01 Па (20% О2) зі

зниженням температури насичення від 750 до 650 і 550 °С зменшується від 37

до 17 і 12 мкм (рис. 5.50). При 650°С зі зменшенням розрідження до 0,1 Па

товщина дифузійного шару збільшується від 17 до 20 мкм.

Згідно з результатами металографічного аналізу (рис. 5.51), товщина

стабілізованого шару α-твердого розчину зі зниженням температури

насичення від 750 до 650 °С зменшується від 26 до 10 мкм. При 650 °С зі

зменшенням розрідження до 0,1 Па зростає до 12 мкм.

Рисунок 5.51 – Структура приповерхневих шарів технічно чистого

титану ВТ1-0 після оксинітрування у розрідженій азоткисневмісній газовій

суміші (20% О2) за температур 750 (а); 650 (б); 550 (в) (розрідження 0,01 Па) і

650°С (г) (розрідження 0,1 Па).

Крива розподілу мікротвердості по перерізу зміцнених шарів,

сформованих за температури оксинітрування 750 °С і розрідження 0,01 Па за

30% О2, як і за 20% О2, розташовується в області найвищих значень твердості

(рис. 5.52). Товщина дифузійного шару за розрідження 0,01 Па (30% О2) зі

зниженням температури насичення від 750 до 650 і 550 °С зменшується від 45

до 12 і 4 мкм. При 650 °С зі зменшенням розрідження до 0,1 Па товщина

дифузійного шару зростає від 12 до 21 мкм.