Page 210 - Докторська дисертація_Ткачук

210

а б

Рисунок 5.21 – TEM-зображення мікроструктури оксинітридного шару,

сформованого на титановому сплаві ВТ6 при 750 °C (а) та 950 °C (б).

а б
Рисунок 5.22 – TEM-зображення мікроструктури шару L0

оксинітрованого шару, сформованого на титановому сплаві ВТ6 при 750 °C (а)

та 950 °C (б).

Згідно результатів ТЕМ-аналізу, показано, що окремі кристаліти в шарі

L0, сформованому під час оброблення при 750 °С, досягають розміру ~10 нм

(рис. 5.23 а). Такі ж спостереження зразка після оброблення при 950 °С

показали, що в цьому випадку шар L0, як мінімум, удвічі товстіший

(рис. 5.23 б). Він формується у вигляді витягнутих зерен із плоскими

дефектними поверхнями. Дифракція електронів, проведена з областей,