Page 82 - Microsoft Word - Дисертація_Винар_end

82

Поверх цього нікелевого підшару наносили наступний нікелевий шар

(рис. 2.4) товщиною 45…50 мкм з сульфатхлоридного електроліту

нікелювання [291]. Склад електроліту в г/л і режим електролізу:

NiSO 47H 2O 250
NaCl 20
Na 2SO 410H 2O 80

MgSO 47H 2O 50
H 3BO 3 30
pН 5,0
t, ˚С 30
2
і, А/дм 2,0

Перед використанням зразків для експериментальних досліджень

поверхні зразків знежирювали ацетоном (ХЧ).

Рисунок 2.4 – Мікроструктура сплаву Д16Т з нікелевим покриттям.

Композиційне електрохімічне покриття Ni–B (рис. 2.5) осаджували на

попередньо осаджене нікелеве покриття за технологією та режимами
описаними вище із суспензії аморфного бору в сульфатхлоридному

2
електроліті нікелювання за катодної густини струму 5 A/дм , температури

40...45°С та гідродинамічних режимів електролізу, рекомендованих у праці

[292].