Page 65 - Докторська дисертація_Ткачук

65

Частинки порошку прискорюються і переносяться до металевої

підкладки. Пошарово осідаючи і кристалізуючись, частинки формують

покриття [208–217]. При цьому можна формувати покриття завтовшки до

100 мкм.

Метод електрофоретичного осадження. Цим методом

електрофоретичного осадження отримують покриття товщиною до 2 мкм.

Метод електрофоретичного осадження базується на осадженні електрично

заряджених частинок ГА в електроліті [218], і використовується для нанесення

покриття на деталі складної форми (рис. 1.16).

Рисунок 1.16 – Принципова схема експериментальної установки (a) i (б)

та механізм реакції електроосадження (в) [218].

Проте низька енергія частинок і проходження процесу осадження за

кімнатної температури призводять до формування неоднорідних ГА покриттів

із дефектами, зокрема з тріщинами. Тому це вимагає додаткового спікання за
високих температур, що може призвести до зміни структури та властивостей

титанової підкладки, а також зміни фазового складу покриття. Окрім цього,
сформовані покриття характеризуються слабкою адгезією до титанової

підкладки [218–224].