Page 68 - Докторська дисертація_Ткачук
P. 68

68

                         Метод  плазмо-електролітного  оксидування  (ПЕО).  Метод  плазмо-

                  електролітного  оксидування  (ПЕО)  або  анодно-іскрового  оксидування  чи

                  мікродугового  оксидування  є  плазмохімічним  і  електрохімічним  процесом.

                  Процес  поєднує  електрохімічне  окиснення  з  високовольтною  іскровою

                  обробкою у водному електроліті, який містить модифікуючі елементи у формі

                  розчинених  солей  які  потрібно  включати  в  отримані  покриття  [255,  256].

                  Установка  для  процесу  ПЕО  містить  нержавну  чи  титанову  ванну  з

                  електролітом, у яку занурюється зразок (робочий електрод), високовольтний

                  блок живлення, водяне охолодження, електромішалку (рис. 1.20).























                         Рисунок  1.20  –  Схематичне  обладнання  для  плазмо-електролітного

                  оксидування [255].



                         Коли  прикладена  напруга  перевищує  певне  критичне  значення,


                  відбувається  мікроплазмовий  розряд  на  поверхні  підкладки,  тим  самим
                  отримуючи модифіковану поверхню [257].


                         Під час процесу мікророзряди швидко виникають і згасають протягом
                           −5
                  10 –10   секунд  на  аноді  і  нагрівають  металеву  підкладку  до  373–423  К.
                     –4
                  Одночасно температура та тиск у розрядних каналах, утворених електричними
                                              3
                                                   4
                                                                         3
                                                                    2
                  іскрами,  досягають  10 –10   К  [258]  і  10 –10   МПа,  відповідно  [259].  Такої
                  температури і тиску є достатньою, щоб викликати плазмову взаємодію між
                  підкладкою  та  електролітом  (рис. 1.21 д).  Це  призводить  до  утворення  на

                  поверхні розплавлених охолоджених високотемпературних оксидів і складних
   63   64   65   66   67   68   69   70   71   72   73