Page 233 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ

233

покриття із залученням спектрального аналізу; с і – вміст в межах окремої ламелі

покриття кожного з аналізованих елементів легування; с сер – середнє значення

концентрації легувального елемента в ЕДП.

Схематичне визначення коефіцієнта мікрогетерогенності покриттів K МГ

проілюстровано на рисунку 6.2. Величина K МГ визначає відхилення концентрації с і

кожного з аналізованих елементів легування і в кожній окремо взятій ламелі від

2
усередненого значення концентрації на ділянці площею 5…10 мм у структурі
покриття (рис. 6.3а, спектр 1). Локальну концентрацію елементів легування с і

визначали на прямокутних за формою ділянках покриття площею 30…

–4
2
35·10 мм (і = 1…n), які за розмірами відповідали середній площі ламелей у
структурі покриттів (рис. 6.3б).

а б

Рисунок 6.3. Схема етапності визначення локальної концентрації елементів

в ЕДП та величини К МГ.(а) та вплив вмісту легувальних компонентів FeTi, FeSi,

FeMn шихти ПД на К МГ.(б).

Визначення K МГ для ЕДП необхідно проводити на шліфах за збільшення

х500 як мінімум десять разів на ділянках ЕДП, що розташовані одна від одної на

віддалі 3…5 мм. Значення K МГ, визначені на проаналізованих ділянках,

усереднювали.

На рисунку 6.3 показано як впливають компоненти шихти ПД на K МГ. Так

феросплави такі як FeTi, FeSi, FeMn відчутно зменшують K МГ і вже при їх

концентрації у шихті ПД на рівні 3…4 мас.% коефіцієнт K МГ стабілізується на

мінімальному рівні. Найбільш інтенсивно K МГ зменшується за додавання до