Page 172 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ

172

Рисунок 4.9 – Вплив температури ІТАШ в електроліті 20% сульфатної

кислоти не протязі 1 години на товщину анодованого шару на сплаві 1011.

Тенденція зміни товщини анодованого шару від температури синтезу

(рисунок 4.8а) засвідчила зниження інтенсивності процесу анодування за

о
температури електроліту понад 0 С. Це зумовлено тим, що з підвищенням
температури електроліту постійно інтенсифікується електрохімічне розчинення

ІТАШ і врешті-решт воно починає домінувати над швидкістю процесу його

синтезу. Оскільки за синтезу при нижчій температурі електроліту ІТАШ менш

активно взаємодіє з кислотою, то низька температура анодування є більш тех-

нологічнішою для технологів у масовому виробництві. Оптимізуючи режим

анодування, обирають таку температуру електроліту, щоб, зберегти на

достатньо високому рівні інтенсивність синтезу ІТАШ, мінімізувавши при

цьому негативний вплив розчинення анодованого шару внаслідок його

взаємодії з кислотою електроліту.

Використання імпульсного режиму анодування забезпечило додатко-

вий приріст товщини шару h порівняно з отриманим за відповідних темпе-

ратурно-часових умов синтезу, але за стабілізованого режиму. Зокрема, за

імпульсного режиму синтезу при пониженій (І) і підвищеній (ІІ) товщина

ІТАШ зростала на 13...30% відносно отриманої за стаціонарного режиму

(рис. 4.8б). Разом з тим товщина анодованих шарів, синтезованих і в

стаціонарному, і в імпульсному режимах, зменшувалася із підвищенням