Page 197 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ
P. 197

197

                      1. 100% порошку Ti 3Al (хімічний склад плазмового покриття: 65мас. % Ti

               + 35мас. % Al)

                      2.  70%  порошку  Ti 3Al  +  30%  порошку  Al  (хімічний  склад  плазмового

               покриття: 50 мас.% Ti + 50 мас.% Al)

                      3.  50%  порошку  Ti 3Al  +  50%  порошку  Al  (хімічний  склад  плазмового

               покриття: 30 мас.% Ti + 70 мас.% Al)

                      4. 70% порошку Ti 3Al + 20% порошку Al + 20 мас. % Cu (хімічний склад

               плазмового покриття: 60 мас.% Ti + 20 мас.% Al + 10 мас.% Cu).



                      5.3.1  Структура  ПЕО  шару,  синтезованого  на  плазмовому  покритті

               (65 мас. % Ti + 35 мас. % Al) [337].

                      Плазмове  покриття  із  порошку  100  мас.%  Ti 3Al  (хімічний  склад

               плазмового покриття: 65 мас.% Ti + 35 мас.% Al) має типову ламелярну будову,

               і міцно зчеплене із алюмінієвою основою Д16 (рис. 5.7а, б). Плазмоелектролітні

               шари  синтезовані  на  такому  покритті  також  повторюють  ламелярну  будову

               плазмового покриття. В ПЕО шарі спостерігали ділянки оксидної фази TiO 2 у

               вигляді ламелей із вмістом понад 50 мас. % титану (рис. 5.7б, спектр 1).

                      В  деяких  ділянках  (спектр  1)  переважає  оксидна  фаза  на  основі  оксиду

               алюмінію γ-Al 2O 3.

                      Розподіл  елементів  (рис.  5.8)  підтверджує  достатньо  рівномірний

               розподіл титану у структурі ПЕО шару. Лише в деяких ділянках зустрічається

               збільшений  вміст  алюмінію.  Включення  нікелю  та  міді  свідчать  про

               забруднення порошку Ti 3Al цими елементами.

                      Фазовим  аналізом  виявлено  дві  оксидні  фази  –  γ-Al 2O 3  та  TiO 2,  які

               фіксуються у структурі ПЕО шару, синтезованого на напиленому плазмовому

               покритті (рис. 5.9).
   192   193   194   195   196   197   198   199   200   201   202